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  • 1200℃滑動(dòng)雙溫區PECVD系統
    時(shí)間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量：8007

    PECVD系統配置：1.1200度開(kāi)啟式雙溫區真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統4.真空系統（可選配中真空或高真空）

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  • 1200℃預加熱滑動(dòng)雙溫區PECVD系統
    時(shí)間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量：21495

    PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

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  • 1200℃集成型自動(dòng)小型PECVD系統
    時(shí)間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量：5219

    PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

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  • 1200度小型PECVD系統
    時(shí)間：2024-05-09生產(chǎn)地址：天津廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量：7113

    PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

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